Dette udstyr er velegnet til forbehandling af wafers før påføring af klæbemiddel. Systemet består af et kammer, vakuumsystem, varmesystem, nitrogenudskylningssystem, væskedispenseringssystem og kontrolsystem. Gennem flere vakuumcyklusser og opvarmning med 150ºC varmt nitrogen tørrer og renser udstyret effektivt waferoverfladen, hvilket forhindrer oxidation og diffusion af urenheder. Væskedispenseringssystemet kan også påføre en HDMS-beskyttelsesfilm på waferoverfladen, hvilket resulterer i fremragende klæbende påføringsegenskaber. Sammenlignet med manuel HMDS-belægning tilbyder dette system betydelige fordele såsom god repeterbarhed, reduceret kemikalieforbrug, miljøvenlighed og sikkerhed for menneskers sundhed. Det kan også bruges til at rense wafers i andre processer. Kontrolsystemet bruger en PLC, og menneske-maskine-grænsefladen bruger en berøringsskærm, der tilbyder høj pålidelighed, nem betjening og intuitiv kontrol.
I halvleder (chip/integreret kredsløb) fremstillingsprocesser er fotolitografi et afgørende trin i integreret kredsløbsmønsteroverførsel. Kvaliteten af fotoresistbelægningen påvirker direkte kvaliteten af fotolitografi, hvilket gør belægningsprocessen særlig vigtig. De fleste fotoresister, der bruges i fotolitografi, er hydrofobe, mens hydroxylgrupperne og resterende vandmolekyler på siliciumwaferoverfladen er hydrofile. Dette resulterer i dårlig vedhæftning mellem fotoresisten og siliciumwaferen, især med positive fotoresists. Under udviklingen kan fremkalderløsningen trænge ind i grænsefladen mellem fotoresisten og siliciumwaferen, hvilket let forårsager fænomener som afskalning og flydning af fotoresisten, hvilket fører til fejl i fotolitografisk mønsteroverførsel. Samtidig er vådætsning tilbøjelig til lateral ætsning. Efter forbehandling med et HMDS-forbehandlingssystem påføres en siloxan-baseret forbindelse på substratoverfladen. Waferoverfladen ændres fra hydrofil til hydrofob, hvilket reducerer kontaktvinklen, reducerer mængden af fotoresist, der kræves, og forbedrer vedhæftningen til fotoresisten. Dette hæmmer lateral ætsning og mønsterdrift under udviklingsprocessen, forbedrer fotoresistadhæsion og forbedrer materialets korrosionsbestandighed i barske miljøer, hvorved produktkvaliteten forbedres betydeligt og defektraten reduceres.
Proces mål:
Udstyret fungerer fuldautomatisk ved hjælp af PLC-styring. Processen involverer højtemperaturbagning af substratet for at fjerne overfladefugt, kombineret med vakuumtørring og nitrogenbeskyttelsesteknologi for at fjerne fugt og forurenende stoffer fra waferoverfladen, forhindre oxidation og diffusion af urenheder og sikre renhed før belægning. HMDS (hexamethyldisilazan C6H19NSi2) gas indføres derefter. Under høj temperatur reagerer substratoverfladen og HMDS fuldt ud og danner en forbindelse, der primært består af siloxan. Dette ændrer substratoverfladen fra hydrofil til hydrofob, hvilket tillader den hydrofobe gruppe at binde godt til fotoresisten og fungerer som et koblingsmiddel.
Procesflow:
Først tændes vakuumpumpen for at begynde at støvsuge. Når vakuumniveauet i kammeret når den indstillede værdi (denne værdi kan indstilles ved at ændre P2-værdien på vakuummåleren, se vakuummålerens manual), tilføres nitrogen. Efter at have nået det indstillede vakuumniveau (denne værdi kan indstilles ved at ændre P1-værdien på vakuummåleren), gentages vakuum- og nitrogenindføringsprocessen. Efter at have nået det indstillede antal nitrogenintroduktioner, begynder støvsugningen igen, efterfulgt af indføringen af den kemiske opløsning. Efter den indstillede tid stopper tilførslen af den kemiske opløsning, og holdefasen begynder. Efter den indstillede holdetid begynder støvsugning og nitrogenindføring igen i det indstillede antal cyklusser. Når systemet automatisk fuldfører processen, afgives en hørbar og visuel alarm, der indikerer, at waferne er klar til at blive fjernet.
① Ydre skalmateriale: Fremstillet af udvalgt højkvalitets koldvalset stålplade (Q235), præcist formet af CNC-bearbejdning. Overfladen er behandlet med fosfatering og antistatisk pulverlakering, hvilket skaber en robust skal. Det er antistatisk, korrosionsbestandigt og ridsefast, hvilket sikrer varig kvalitet;
② Indre kammer: Det indre kammer er lavet af 304 børstet rustfrit stål, med materialecertificering (materialerapport tilgængelig), korrosionsbestandigt og let at rengøre;
③ Kontrolpanel: Avanceret farveberøringsskærmscontroller, der viser nøgleparametre såsom temperatur og tid i realtid. Intelligente fejl- og alarmoplysninger giver klar og intuitiv kontrol;
④ Observationsvindue: Panorama-observationsvindue med stor vinkel, ved hjælp af 8 mm ydre og 20 mm indre dobbeltlags hærdet glas, højtemperaturbestandigt og meget gennemsigtigt, der tydeligt viser hele det indre af kammeret i realtid, hvilket gør den eksperimentelle status klar med et øjeblik;
⑤ Hylder: Standardforkromede korrosionsbestandige mesh-hylder, fås også i forskellige materialer og strukturer for fleksibel tilpasning til forskellige eksperimentelle behov;
⑥ Isoleringslag: Rummet mellem den ydre skal og arbejdskammeret er fyldt med 80 mm tykt keramisk fiberbomuld med høj renhed (Al₂O₃), hvilket giver overlegen varmeisolering, reducerer varmetabet kraftigt, sikrer konstant temperaturstabilitet og høj energieffektivitet;
⑦ Tætningsstrimmel: Udstyret med en specialstøbt tætningsring af silikonegummi, med en perifer konveks linjestruktur og en unik aktiv vakuumbrydende tætningsteknologi. Den danner øjeblikkeligt en kanal under trykudløsning, hvilket i høj grad forbedrer vakuumbrudeffektiviteten og sikrer, at døren let kan åbnes efter trykudløsning;
⑧ Varmerør: Skræddersyet ultra-lang levetid SUS304 rustfrit stål varmerør, med valgfri hylde/omgivende varmestruktur, præcist tilpasset til processen, hvilket sikrer ensartet og effektiv opvarmning;
⑨ Indløbs-/udløbsventiler: Vakuumventiler helt i kobber, lette og følsomme at betjene og pålidelig tætning;
① Dette system udfører automatisk programmerede cyklusser med konstant temperatur, højvakuum og udrensning af inert gas i henhold til forudindstillede parametre; det styrer præcist tidspunktet for væskeinjektion og trykvedligeholdelse; og giver lyd- og visuelle signaler efter afslutningen af processen.
② Farveberøringsskærm: Udstyret med en standardfarveskærm og berøringskontrol, der viser parametre som indstillet temperatur, driftstemperatur, konstant temperaturtid og fejlinformation på en enkelt skærm; dynamisk justering af PID-parametre med funktioner som reaktionshastighed og undertrykkelse af temperaturoverskridelse;
③ Bruger en mikrocomputer P.I.D temperaturcontroller med beskyttelse mod overtemperaturafvigelse, overhastighedsbeskyttelse og berøringsskærm, og inkluderer en timingfunktion;
④ Flere timing-tilstande: 1. Timing-enheder kan frit skiftes mellem minutter og timer; 2. To timingtilstande: timing fra tænding og timing efter at have nået konstant temperatur;
⑤ Udstyret med en højpræcisionsmodstand siliciumvakuumsensor, som er stabil og pålidelig og registrerer vakuumgraden inde i kammeret i realtid, hvilket giver nøjagtig dataunderstøttelse og garanti for præcise processer;
⑥ Opgraderet lyd- og lysalarm miljøscanningsmikrocomputerchip med stabile databehandlingskapaciteter;
⑦ Funktioner omfatter overtemperaturalarm, overtemperaturopvarmningsafbrydelse, tidsindstillet nedlukning, gendannelse ved start, parameterhukommelse, temperaturkorrektion og selvindstilling;
⑧ Gendannelsesfunktion for strømsvigt: Hvis den eksterne strømforsyning pludselig mistes og derefter genoprettes, kan udstyret automatisk genoptage driften i henhold til det oprindeligt indstillede program;
⑨ Selvjustering: Når temperaturstyringens nøjagtighed er unøjagtig på grund af ændringer i omgivelsestemperaturen, kan selvjustering udføres for at gøre temperaturen mere præcis;
⑩ Flere tilstande kan frit skiftes: fast værdi mode/timing mode switching.
| Model | DEP-HMDS50 | DEP-HMDS50 | DEP-HMDS150 |
| Kontrolsystem | PLC industricomputer | ||
| Menneske-computer interaktion | 7-tommer farve touchscreen controller | ||
| Temperatursensor | PT100 Platinum RTD | ||
| Temperaturområde | RT 10~200℃ | ||
| Temperaturopløsning | 0,1 ℃ | ||
| Temperaturudsving | ≤±0,5℃ | ||
| Timer rækkevidde | 0~9999 min | ||
| Program gruppe | 100 grupper / 100 segmenter pr. gruppe | ||
| Datasikkerhed | Niveau 3 adgangskontrol, revisionsspor | ||
| Intelligent sikkerhed | Tænd selvtest, overtemperaturalarm og varmeafbrydelse, korrektion af temperatursensorafvigelse, skærmlås. | ||
| Tidsretning | Optælling/nedtælling | ||
| Timing enhed | Minut/time | ||
| Vakuum måler | Resistiv silicium vakuummåler | ||
| Ultimativt vakuum | ≤100 Pa | ||
| Pumpehastighed | 2L/S | ||
| Strømforsyningsspænding | AC220V/50Hz | 220V/18A | 220V/18A |
| Nominel effekt | 2KW | 3KW | 3,2KW |
| Indvendige dimensioner | 410x370x345 mm | 450x450x450 mm | 500x500x600 mm |
| Udvendige dimensioner | 610x525x1285mm | 660x590x1470 mm | 670x650x1630 mm |
| Volumen | 52L | 91L | 150L |
| Standard hylder | 2 | 2 | 3 |
| Brutto/Nettovægt | 152/138 kg | 185/165 kg | 235/205KG |
| Nej. | Navn | Parametre | Referencefoto |
| 1 | Scroll Vakuumpumpe | ① Oliefri pumpe | |
| 2 | Olietågefilter | ① Filtrerer olietåge fra vakuumpumpen |  |
Produkter leveret af berømte virksomheder er dybt betroede af brugerne.
Shanghai Dengsheng Instrument Manufacturing Co., Ltd. , er en højteknologisk virksomhed, der integrerer F&U, produktion, salg og service. Vi er specialiserede i fremstilling af avanceret laboratorieudstyr, herunder ovne, inkubatorer, industriovne og miljøtestkamre.
As og Vi kan prale af et moderne produktionsanlæg på 8.000 kvadratmeter, et dedikeret R&D-team, 23 nationale patenter og ISO-9001 kvalitetsstyringssystemcertificering. Vores løsninger bruges i vid udstrækning inden for banebrydende områder såsom rumfart, halvledere, biomedicin, bilindustrien og nye materialer. Vi har etableret dybtgående partnerskaber med topuniversiteter og industriledere, leverer vores produkter eksporteres til mange lande og regioner rundt om i verden.
Ved at overholde principperne om "Integritet, Innovation og Win-Win" er vi forpligtet til at blive din betroede partner med pålidelig kvalitet og dedikeret service.
Vi glæder os over forespørgsler og samarbejde fra både nye og eksisterende kunder, der leverer professionelle udstyrsløsninger.
2026/03/09
2026/03/02
2026/02/24
Tilbage til toppen
